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        • 商品名称: 钽溅射靶材
        • 浏览次数: 652

        产品名称:钽溅射靶材
        执行标准:B708-98
        圆靶材规格:直径(25-400)mm *厚度(3-28)mm
        方靶材规格:厚度(1-12.7)mm*宽度(10-600)mm*长度(200-2000)mm 
        公差:直径公差+/- 0.254
        牌号:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)
        纯度:≥99.9%         
        再结晶:最少95%
        晶粒度:最小40μm
        表面粗糙度:Ra 0.8 最大
        平整度:0.1mm or 0.10% 最大.
        成份

        牌号

        主要成份

        杂质含量  不大于%

        Ta

        Nb

        Fe

        Si

        Ni

        W

        Mo

        Ti

        Nb

        O

        C

        H

        N

        Ta1

        剩余

        ——

        0.005

        0.005

        0.002

        0.01

        0.01

        0.002

        0.04

        0.02

        0.01

        0.0015

        0.01

        Ta2

        剩余

        ——

        0.03

        0.02

        0.005

        0.04

        0.03

        0.005

        0.1

        0.03

        0.01

        0.0015

        0.01

        TaNb3

        剩余

        <3.5

        0.03

        0.03

        0.005

        0.04

        0.03

        0.005

        ——

        0.03

        0.01

        0.0015

        0.01

        TaNb20

        剩余

        17.0~23.0

        0.03

        0.03

        0.005

        0.04

        0.03

        0.005

        ——

        0.03

        0.01

        0.0015

        0.01

        Ta2.5W

        剩余

         

        0.005

        0.005

        0.002

        3.0

        0.01

        0.002

        0.04

        0.02

        0.01

        0.0015

        0.01

        Ta10W

        剩余

         

        0.005

        0.005

        0.002

        11

        0.01

        0.002

        0.04

        0.02

        0.01

        0.0015

        0.01

        我司可提供质量优良的钽靶材。纯度为3N5到5N,晶粒度致密性好,使用性能稳定。
        另我司有通过权威机构对靶材成分进行检测,均符合行业使用标准。对于靶材废料,我司也提供回收项目。
        应用:钽靶主要应用于半导体和磁记录等薄膜溅射行业。
        如有特殊要求,双方具体商定
         

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