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钽溅射靶材




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钽靶材

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溅射靶材

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产品描述


产品名称:钽溅射靶材
执行标准:B708-98
圆靶材规格:直径(25-400)mm *厚度(3-28)mm
方靶材规格:厚度(1-12.7)mm*宽度(10-600)mm*长度(200-2000)mm 
公差:直径公差+/- 0.254
牌号:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)
纯度:≥99.9%         
再结晶:最少95%
晶粒度:最小40μm
表面粗糙度:Ra 0.8 最大
平整度:0.1mm or 0.10% 最大.
成份

牌号

主要成份

杂质含量  不大于%

Ta

Nb

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

Nb

O

C

H

N

Ta1

剩余

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta2

剩余

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

剩余

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

剩余

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

Ta2.5W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

我司可提供质量优良的钽靶材。纯度为3N5到5N,晶粒度致密性好,使用性能稳定。
另我司有通过权威机构对靶材成分进行检测,均符合行业使用标准。对于靶材废料,我司也提供回收项目。
应用:钽靶主要应用于半导体和磁记录等薄膜溅射行业。
如有特殊要求,双方具体商定
 


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